一、天津纱帝grafichx感光胶
这个应该是多元固化重氮型感光胶，解像度比较高。
不知道你想了解什么？
二、国内oca光学胶生产厂家有哪些？
国际上日韩品牌比较多。
日本的日东、日立化成、韩国LG、SMK等 国内UV固化工艺的OCA光学胶康利邦
三、光阻、光阻剂、光刻胶是同一个意思吗？
光刻胶（英语：photoresist），亦称为光阻或光阻剂，是指通过紫外光、深紫外光、电子束、离子束、X射线等光照或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀刻薄膜材料，是光刻工艺中的关键材料，主要应用于集成电路和半导体分立器件的细微图形加工。
四、光刻胶是大规模集成电路、印刷电路板和激光制版技术中的关键材料。某一肉桂酸型光刻胶的主要成分A经光照
（1）酯基、羰基、碳碳双键、苯基（任意两种）（2）加成（3）“略”（4）C 18 H 16 O 4
五、光刻胶是大规模集成电路、印刷电路板和激光制版技术中的关键材料。某一肉桂酸型光刻胶的主要成分A经光照固化转变为B。(1)请写出A中含有的官能团_________（填两种）。(2)A经光照固化转变为B，发生了__________反应（填反应类型）。(3)写出A与NaOH溶液反应的化学方程式_____
试题答案：(1)酯基、羰基、碳碳双键任答两种(2)加成 (3) (4)
六、深圳东莞信泰光学情况介绍
所有学校都是一样的，呵只是外边是度金罢了，不过还是祝贺你，加油。
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七、怎样选择光刻胶？进口光刻胶有哪些品牌？
比较快捷的光刻胶选择方式是从后道工艺需求倒推对光刻胶的参数要求，从而选择合适的光刻胶。
例如，我们在光刻之后要进行400um深度的深硅刻蚀工艺，而线宽的要求是50um.一般光刻胶薄胶与硅材料的刻蚀速度都可以达到1：20的刻蚀选择比，因此我们可以得到所需光刻胶应在20um以上厚度，而分辨率在50um以下。
此时我们可以查阅相应的光刻胶列表，首先选择光刻胶厚度符合20um这一厚胶特征的，然后再在厚胶中，选择分辨率优于50um的光刻胶。
要确认该光刻胶在描述中是否适合所需刻蚀工艺，目前的设备条件是否适合加工该种光刻胶，进而要比较不同光刻胶对于本工艺的工艺窗口是否宽大，尽可能选择工艺窗口宽，工艺难度低的光刻胶材料。
光刻胶的相关参数有波长，分辨率，胶厚度，适用工艺范围，烘烤温度，显影时间等。
进口光刻胶的品牌有 美国Micro Chem-SU8胶 、 Micro resist纳米压印胶，紫外正性负性光刻胶、电子束光刻胶、剥离工艺Lift of 光刻胶 ， Futurrex紫外光刻胶、AZ光刻正胶等，还有其他品牌很多的。
八、光刻胶上市公司龙头有哪些
1、目前光刻胶相关的上市公司龙头有飞凯材料、容大感光、广信材料、上海新阳、永太科技、晶锐股份、南大光电等个股。
2、随着全球半导体、液晶面板以及消费电子等产业向国内转移，国内对光刻胶需求量迅速增量，因而这一板块相关的个股都将迎来业绩上的爆发期。
不过，国内目前光刻胶主要集中在PCB领域，高技术壁垒的LCD和半导体光刻胶主要依赖进口。
3、光刻胶这种产品主要是用于光电信息产业的微细图形线路的加工制作，下游主要用于集成电路、面板和分立器件的微细加工，同时在LED、光伏、磁头及精密传感器等制作过程中也有广泛应用，所以它是微细加工技术的关键性材料。
因此，它的这些性质也是目前炒作的主要原因。
九、光刻胶是什么
光刻胶也称为光致抗蚀剂，是一种光敏材料，受到光照后特性会发生改变，是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一，主要应用于电子工业和印刷工业领域。
光刻胶有正胶和负胶之分：正胶经过曝光后，受到光照的部分变得容易溶解，经过显影后被溶解，只留下未受光照的部分形成图形。
而负胶却恰恰相反，经过曝光后，受到光照的部分会变得不易溶解，经过显影后，留下光照部分形成图形。
